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产品

光刻功能材料-光刻胶

光刻功能材料主要是辅助光刻胶实现 更好的图形化的材料,我们主要有:金属剥离胶(lift off 工艺),抗反射涂层,填充平坦化材料,增粘剂等;

产品描述

光刻胶是主要是半导体工艺中实现图形化的牺牲材料,我们主要有:

356nm I 线正性光刻胶,环氧负性光刻胶和高分辨率的电子束光刻胶。

光刻配套试剂是光刻胶实现图形化前后辅助材料,主要有:光刻胶去胶剂,洗边液,特种保护显影液及光刻胶稀释试剂等。

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